| 发明名称 | 玻璃基板硬化处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种玻璃基板硬化处理方法，包括以下步骤：在真空环境中加热处理玻璃基板；由离子源设备发射高能量等离子体轰击加热处理后的玻璃基板，促使玻璃基板表层结构重组形成硬化层。在进行加热处理之前，还可先对所述玻璃基板进行清洗。所述加热处理玻璃基板是在真空环境中进行。本发明通过采用高能量等离子体轰击加热处理后的玻璃基板，能很好地促使玻璃基板表层结构重组形成硬化层，可以使玻璃基板的莫氏硬度从5~6提高到7以上；而且，在波长550nm处透过率仍可达91%以上，能很好地满足硬度和透过率的双重要求。本发明方法可广泛应用于手机、可穿戴产品或智能车载等电子产品信息显示终端触摸屏的生产。 | ||
| 申请公布号 | CN106082616A | 申请公布日期 | 2016.11.09 |
| 申请号 | CN201610616552.4 | 申请日期 | 2016.07.29 |
| 申请人 | 爱发科豪威光电薄膜科技（深圳）有限公司 | 发明人 | 满小花;徐旻生;张永胜;庄炳河;黄高峰 |
| 分类号 | C03B32/00(2006.01)I;C03C23/00(2006.01)I | 主分类号 | C03B32/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市翼智博知识产权事务所(普通合伙) 44320 | 代理人 | 肖伟 |
| 主权项 | 一种玻璃基板硬化处理方法，其特征在于，包括：加热处理玻璃基板；由离子源设备发射高能量等离子体轰击加热处理后的玻璃基板，促使玻璃基板表层结构重组形成硬化层。 | ||
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区科技园北区朗山二号路豪威大厦二楼 | ||