发明名称 具有稳定阈值电阻转变特性的材料以及动态随机存储器件
摘要 本发明提供了一种具有稳定阈值电阻转变特性的材料,其为具有非晶硅或纳米晶硅颗粒嵌入的氧化硅薄膜,膜的厚度为30‑80nm。一种动态随机存储器件,包括顶电极、阻变介质层、衬底和背电极,该阻变介质层为上述具有非晶硅或纳米晶硅颗粒嵌入的氧化硅薄膜。所述顶电极可以采用Cu为材料。本发明选用了COMS工艺兼容的技术来制备动态随机存储器件,制备过程主要采用了物理法沉积薄膜设备和退火设备。通过控制靶材二氧化硅和硅片的表面积比、生长时间、生长气压、电源功率、退火温度和时间等参数,达到人为控制纳米颗粒嵌入的氧化硅薄膜状态的目的,从而得到具有较低的转变电压和转变电流的器件。
申请公布号 CN105932154A 申请公布日期 2016.09.07
申请号 CN201610325231.9 申请日期 2016.05.17
申请人 浙江师范大学 发明人 黄仕华;陈达
分类号 H01L45/00(2006.01)I;C01B33/113(2006.01)I;C01B33/02(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 杭州之江专利事务所(普通合伙) 33216 代理人 朱枫
主权项 一种具有稳定阈值电阻转变特性的材料,其特征在于,其为具有非晶硅或纳米晶硅颗粒嵌入的氧化硅薄膜,膜的厚度为30‑80nm。
地址 321004 浙江省金华市迎宾大道688号
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