| 发明名称 | 包含含氧化铈磨料粒子的CMP组合物 | ||
| 摘要 | 本发明描述一种包含含氧化铈磨料粒子的化学机械抛光(CMP)组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN105555889A | 申请公布日期 | 2016.05.04 |
| 申请号 | CN201480051205.0 | 申请日期 | 2014.07.08 |
| 申请人 | 巴斯夫欧洲公司 | 发明人 | M·劳特尔;Y·李;B·M·诺勒;R·朗格;R·赖夏特;兰永清;V·博伊科;A·克劳泽;J·冯 塞耶尔;S·A·奥斯曼 易卜拉欣;M·西伯特;K·哈特纳格尔;J·登勒;N·S·希勒沙姆 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I;C09G1/04(2006.01)I;C09G1/00(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 王丹丹;刘金辉 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含以下成分：(A)含氧化铈磨料粒子(B)一种或多种聚合物，其中所述聚合物(B)的各大分子包含(i)一个或多个阴离子官能基(ii)及(iii)一个或多个结构单元‑(AO)<sub>a</sub>‑R其中在与每一其他结构单元‑(AO)<sub>a</sub>‑R独立的各结构单元‑(AO)<sub>a</sub>‑R中A为C<sub>x</sub>H<sub>2x</sub>，其中对于所述结构单元‑(AO)<sub>a</sub>‑R中的每个A，x与每一其他x独立地选自2至4范围内的整数，其中x优选为2或3，进一步优选地x＝2其中在各结构单元‑(AO)<sub>a</sub>‑R内，基团A为相同或不同a为选自5至200，优选8至150，最优选20至135范围的整数，R为氢或具有1至4个碳原子的支化或线性烷基，其中在所述聚合物(B)中，所有结构单元(ii)的摩尔质量总和至少为所述聚合物(B)的摩尔质量的50％。 | ||
| 地址 | 德国路德维希港 | ||