发明名称 一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备
摘要 本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备。该掩膜版的清洗装置包括振荡装置,所述振荡装置设置于掩膜版上,所述振荡装置在所述掩膜版完成蒸镀后对其施加振动力,使所述掩膜版上的残留材料脱落。而且,该掩膜版的清洗装置还包括静电吸附装置,所述静电吸附装置通过产生的静电吸附所述掩膜版上的残留材料。本发明利用超声振荡原理实现的有机发光材料清洗方法,可以有效避免有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的掩膜版损坏、资源浪费和环境污染等问题。另外,超声振荡清洗还可避免外部污染的引入,使回收的材料可以重复利用,极大地节约了时间和资源成本,适用于绿色生产和大规模量产的发展方向。
申请公布号 CN105537194A 申请公布日期 2016.05.04
申请号 CN201610005888.7 申请日期 2016.01.04
申请人 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 发明人 王强;刘利宾
分类号 B08B3/12(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 主分类号 B08B3/12(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 李相雨
主权项 一种掩膜版的清洗装置,其特征在于,包括振荡装置,所述振荡装置设置于掩膜版上,所述振荡装置在所述掩膜版完成蒸镀后对其施加振动力,使所述掩膜版上的残留材料脱落。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号