发明名称 Cleaning apparatus for substrate and cleaning method thereof
摘要 본 발명은 기판 세정장치 및 기판 세정방법에 관한 것으로, 특히 기판으로 스팀을 분사하여 기판을 세정하는 기판 세정장치 및 기판 세정방법에 관한 것이다. 본 발명은 기판 세정공정에 스팀 세정유닛을 더욱 포함하고, 스팀 세정유닛에서 스팀세정장치를 사용하여 기판을 세정하는 것을 특징으로 한다. 특히, 스팀세정장치를 통해, 기판 상에 스팀을 분사하는 과정에서 스팀의 전후단에서 압축공기를 동시에 분사되도록 함으로써, 스팀에 의해 기판으로부터 떨어진 미세이물이 다시 기판 상에 부착되는 것을 방지하는 동시에 기판 상에 분사되는 스팀이 기판의 세정영역 외의 영역으로 비산되는 것을 방지하는 역할을 한다. 또한, 압축공기는 기판 상의 수막을 제거하는 역할을 하며, 스팀의 전단에서 압축공기를 분사하는 대신, 기판으로부터 떨어진 미세 이물 또는 비산되는 스팀을 흡입할 수도 있다. 또한, 압축공기는 스팀에 의해 기판 상에 물얼룩이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 또한 기판 상의 잔류수분을 제거 할 수 있다.
申请公布号 KR101614773(B1) 申请公布日期 2016.05.02
申请号 KR20100048121 申请日期 2010.05.24
申请人 엘지디스플레이 주식회사 发明人 이종혁;성관중;이재민;호원준;양희정
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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