基板处理装置、基板处理方法及储存媒体

摘要

明系关于一种基板处理装置、基板处理方法以及储存媒体，系可自插设有第1阀之第1排气通路与插设有第2阀之第2排气通路对真空容器1内之环境气氛进行个别真空排气，而以真空容器内之压力成为处理压力P的方式调整第1阀之开度，且为了使得第1排气通路之排气流量与第2排气通路之排气流量成为对应于配方之设定值，乃将于第2排气通路进一步设置之蝶型阀之开度V设定为于表所记载之值，其次，以于第2排气通路进一步设置之压差计之测定值成为于表所记载之压差ΔP的方式来调整第2阀之开度。

主权项

一种基板处理装置，系于真空容器内之载置台上载置基板，对该基板自处理气体供给部供给处理气体以于真空环境气氛下进行处理者，具备有：第1排气通路与第2排气通路，系用以对该真空容器内进行真空排气；第1压力调整阀，系插设于该第1排气通路；第2压力调整阀，系插设于该第2排气通路；传导调整部，系设于该第2排气通路之该第2压力调整阀的1次侧，而用以调整该第2排气通路之传导；第1压力测定器，系用以测定该真空容器内压力；压差测定部，系用以测定该传导调整部之1次侧与2次侧的压差；储存部，系用以储存规定有该真空容器内之压力值、该传导调整部之调整值、该第2排气通路之排气流量以及该压差之关系的数据；以及控制部，系自此储存部所储存着之数据读取与该第2排气通路之排气流量设定值相对应之该真空容器内之压力值、该传导调整部之调整值以及该压差，从而输出控制讯号，以成为该压力值的方式来调整该第1压力调整阀，并以成为该调整值的方式藉由该传导调整部来调整该第2排气通路之传导，接着以成为该压差的方式来调整该第2压力调整阀。