发明名称 |
一种含氟萘乙基硅树脂及其制备方法和应用 |
摘要 |
本发明公开了一种含氟萘乙基硅树脂及其制备方法和应用。本发明以含氟萘乙基有机硅单体、烃基三氯硅烷、烃基二氯硅烷为起始原料,通过缩合反应制得溶胶;将所得溶胶溶液旋涂于硅片上,然后加热使其固化成膜,获得含氟萘乙基硅树脂;还可通过对膜进行退火处理,以进一步改善含氟萘乙基硅树脂的电学特性。可通过改变含氟萘乙基有机硅单体、烃基三氯硅烷、烃基二氯硅烷的比例来改变含氟萘乙基硅树脂的综合性能,使其符合人们对低介电常数材料的不同需求。本发明中含氟萘乙基硅树脂的介电常数可以达到2.0~2.5,因此可用作45nm以下的极大规模集成电路上的低介电常数材料。该含氟萘乙基硅树脂的制备方法简单,有利于工业化生产。 |
申请公布号 |
CN105418926A |
申请公布日期 |
2016.03.23 |
申请号 |
CN201410464412.0 |
申请日期 |
2014.09.12 |
申请人 |
中国科学院上海高等研究院 |
发明人 |
王万军;袁京;杜丽萍;黄祚刚;姜标 |
分类号 |
C08G77/24(2006.01)I;C09D183/08(2006.01)I |
主分类号 |
C08G77/24(2006.01)I |
代理机构 |
上海硕力知识产权代理事务所 31251 |
代理人 |
王法男 |
主权项 |
一种含氟萘乙基硅树脂,其特征在于:该含氟萘乙基硅树脂是以含氟萘乙基有机硅单体、烃基三氯硅烷、烃基二氯硅烷为起始原料,通过缩合反应得到溶胶,将溶胶进一步加热固化制备获得的薄膜材料;所述含氟萘乙基有机硅单体的结构如式(Ⅰ)所示,<img file="FDA0000569267710000011.GIF" wi="329" he="584" />其中,R<sub>f</sub>为‑(CH<sub>2</sub>)<sub>m</sub>(CF<sub>2</sub>)<sub>n</sub>F或‑(CH<sub>2</sub>)<sub>m</sub>(CF<sub>2</sub>)<sub>n</sub>H,其中m为1~2的整数,n为1~10的整数;R<sub>1</sub>为甲基或苯基;R<sub>2</sub>为‑H或R<sub>f</sub>;R<sub>3</sub>为‑H或R<sub>f</sub>。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区海科路99号 |