发明名称 一种InP薄膜复合衬底的制备方法
摘要 本发明提供一种InP薄膜复合衬底的制备方法,包括步骤:提供InP衬底,所述InP衬底具有注入面,从所述注入面进行离子注入,在所述InP衬底的预设深度处形成缺陷层;然后提供支撑衬底,将经过离子注入的衬底的注入面与机械强度较高、密度较小的支撑衬底键合形成复合结构;最后将InP沿缺陷层分离,形成高机械强度衬底上的InP薄膜复合衬底。本发明通过离子注入与键合,可以形成具有高机械强度的InP薄膜复合衬底,薄膜中的位错密度明显低于异质外延的InP薄膜,并且可以从一片InP材料上循环分离出来很多薄膜,提高InP材料的利用率,降低InP耗材成本。利用低密度的支撑衬底可以降低整个复合衬底的重量,适合空间应用。
申请公布号 CN105374664A 申请公布日期 2016.03.02
申请号 CN201510695855.5 申请日期 2015.10.23
申请人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明人 欧欣;黄凯;贾棋;王曦
分类号 H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 唐棉棉
主权项 一种InP薄膜复合衬底的制备方法,其特征在于,所述制备方法至少包括:1)提供InP衬底,所述InP衬底具有注入面,从所述注入面进行离子注入,在所述InP衬底的预设深度处形成缺陷层;2)提供支撑衬底,将所述注入面与所述支撑衬底键合;3)从所述缺陷层处剥离,获得InP薄膜复合衬底。
地址 200050 上海市长宁区长宁路865号