光罩基底及转印用遮罩之制造方法

摘要

明系一种光罩基底，该光罩基底系于透光性基板上包含利用以可由氯系气体进行乾式蚀刻之金属为主成分之材料形成之遮光膜，且于对该遮光膜形成转印图案时使用抗蚀膜。本发明之光罩基底系于遮光膜之上表面，设置有由在过渡金属及矽中更包含氮及氧中之至少一元素之材料形成之蚀刻遮罩膜，且该蚀刻遮罩膜中之过渡金属与矽中之过渡金属之含有比率未达9%。

主权项

一种光罩基底，其特征在于：其系于透光性基板上，包含遮光膜，该遮光膜系以可由氯系气体进行乾式蚀刻之金属作为主成分之材料形成，且设有与上述遮光膜之上表面相接，并由过渡金属及矽中更包含氮及氧中之至少一元素之材料形成之蚀刻遮罩膜，且该蚀刻遮罩膜中之过渡金属与矽之间之过渡金属之含有比率为5%以下。