一种磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶

摘要

本实用新型公开了一种真空磁控溅射镀膜机的旋转靶，其特征在于，依次设置有靶头、靶芯、密封腔、驱动装置、连接法兰、铜质靶材、辅助环、磁块、冷却通道。优选的，所述密封腔的出口设置在密封腔的上端，且通过控制阀控制。所述靶芯之穿入铜质靶材的部分外周还套设有辅助环，辅助环的外径小于处于铜质靶材内的冷却通道内径。所述磁块按靶芯外周均匀分布，且采用高磁和低磁相互间隔的分布。所述铜质靶材为中空结构，内部设有冷却通道，冷却通道的冷却液进口设置在靶头处，冷却水出口设置在铜质靶材的后端。本实用新型具有的有益效果：通过靶芯旋转，从而使溅射更均匀，且设有冷却通道降温结构，提升镀膜效果，该结构简单，经济效益较高。

主权项

一种真空磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶，其特征在于，依次设置有靶头(1)、靶芯(2)、冷却水进口(3)、密封腔(4)、驱动装置(5)、连接法兰(6)、铜质靶材(7)、辅助环(8)、磁块(9)、冷却通道(10)、冷却水出口(11)。