| 发明名称 | 掩膜板及其制作方法、利用掩膜板构图的方法、滤光片 | ||
| 摘要 | 一种掩膜板及其制作方法、利用掩膜板构图的方法，该掩膜板包括图形区和非图形区；所述图形区中设置有互不重叠的第一图形部和第二图形部，所述第一图形部允许第一波长的光透过且不允许第二波长的光透过，所述第二图形部允许所述第二波长的光透过且不允许所述第一波长的光透过；所述非图形区允许所述第一波长的光和所述第二波长的光透过，或者所述非图形区不允许所述第一波长的光和所述第二波长的光中的任一个透过。该掩膜板可以将多张掩膜板结合为一张掩膜板。 | ||
| 申请公布号 | CN105182679A | 申请公布日期 | 2015.12.23 |
| 申请号 | CN201510680818.7 | 申请日期 | 2015.10.19 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 张治超;郭总杰;刘正;王守坤 |
| 分类号 | G03F1/00(2012.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/00(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 彭久云 |
| 主权项 | 一种掩膜板，包括图形区和非图形区，其中，所述图形区中设置有互不重叠的第一图形部和第二图形部，所述第一图形部允许第一波长的光透过且不允许第二波长的光透过，所述第二图形部允许所述第二波长的光透过且不允许所述第一波长的光透过；所述非图形区允许所述第一波长的光和所述第二波长的光透过，或者所述非图形区不允许所述第一波长的光和所述第二波长的光中的任一个透过。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||