| 发明名称 | 掩膜版及其制造方法、制造装置、掩膜版的使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种掩膜版及其制造方法、制造装置、掩膜版的使用方法，属于显示技术领域。该制造方法包括：在不透光基板上形成透光区域，所述不透光基板上除所述透光区域外的区域为遮光区域，所述透光区域的开口边缘呈齿形。本发明解决了产品的良率较低的问题，实现提高产品的良率的效果，用于显示装置。 | ||
| 申请公布号 | CN105137709A | 申请公布日期 | 2015.12.09 |
| 申请号 | CN201510647041.4 | 申请日期 | 2015.10.08 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 万冀豫;杨同华;姜晶晶;张思凯;冯贺 |
| 分类号 | G03F1/29(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/29(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人 | 鞠永善 |
| 主权项 | 一种掩膜版的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在不透光基板上形成透光区域，所述不透光基板上除所述透光区域外的区域为遮光区域，所述透光区域的开口边缘呈齿形。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||