发明名称 |
ナノ粒子の製造方法 |
摘要 |
【課題】物理蒸着法によって、不純物がなく、粒子径分布の狭い、3次元に成長したナノ粒子を安定して製造することができ、粒子径と製造量を自由に制御できる製造装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】物理蒸着装置において、蒸着源3と被蒸着体8の間にシャッター機構4が設けられているナノ粒子の製造装置であり、ナノ粒子の製造に適切な蒸着−非蒸着時間が設定され、間欠的に蒸着されるナノ粒子の製造方法。【選択図】図1 |
申请公布号 |
JP5802811(B1) |
申请公布日期 |
2015.11.04 |
申请号 |
JP20140172633 |
申请日期 |
2014.08.27 |
申请人 |
株式会社ジーエル・マテリアルズホールディングス |
发明人 |
高 錫勤;林 元日古;梶 浩之;中原 真;井上 博史 |
分类号 |
C23C14/00;B22F9/12;B82Y40/00;C23C14/54 |
主分类号 |
C23C14/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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