发明名称 |
记忆体元件的形成方法;METHOD FOR FORMING MEMORY DEVICE |
摘要 |
本揭露书提供一种记忆体元件的形成方法,包括:于一第一电极上形成一电阻转换层;于该电阻转换层上形成一第二电极;对该电阻转换层提供一形成电压使该电阻转换层之电阻变小;在提供该形成电压之后,对该电阻转换层提供一初始重置电压使该电阻转换层之电阻变大;在提供该初始重置电压之后,对该电阻转换层提供一第一设定电压,使该电阻转换层之电阻变小;在提供该第一设定电压之后,对该电阻转换层提供一第二重置电压,使该电阻转换层之电阻变大;以及在提供该第二重置电压之后,对该电阻转换层提供一第二设定电压,使该电阻转换层之电阻变小,其中该第二设定电压小于该第一设定电压。 |
申请公布号 |
TW201539815 |
申请公布日期 |
2015.10.16 |
申请号 |
TW103112803 |
申请日期 |
2014.04.08 |
申请人 |
华邦电子股份有限公司 WINBOND ELECTRONICS CORP. |
发明人 |
林孟弘 LIN, MENG HENG;吴伯伦 WU, BO LUN |
分类号 |
H01L45/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L45/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文颜锦顺 |
主权项 |
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地址 |
台中市大雅区科雅一路8号 TW |