发明名称 记忆体元件的形成方法;METHOD FOR FORMING MEMORY DEVICE
摘要 本揭露书提供一种记忆体元件的形成方法,包括:于一第一电极上形成一电阻转换层;于该电阻转换层上形成一第二电极;对该电阻转换层提供一形成电压使该电阻转换层之电阻变小;在提供该形成电压之后,对该电阻转换层提供一初始重置电压使该电阻转换层之电阻变大;在提供该初始重置电压之后,对该电阻转换层提供一第一设定电压,使该电阻转换层之电阻变小;在提供该第一设定电压之后,对该电阻转换层提供一第二重置电压,使该电阻转换层之电阻变大;以及在提供该第二重置电压之后,对该电阻转换层提供一第二设定电压,使该电阻转换层之电阻变小,其中该第二设定电压小于该第一设定电压。
申请公布号 TW201539815 申请公布日期 2015.10.16
申请号 TW103112803 申请日期 2014.04.08
申请人 华邦电子股份有限公司 WINBOND ELECTRONICS CORP. 发明人 林孟弘 LIN, MENG HENG;吴伯伦 WU, BO LUN
分类号 H01L45/00(2006.01) 主分类号 H01L45/00(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文颜锦顺
主权项
地址 台中市大雅区科雅一路8号 TW
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