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发明名称
保护膜形成膜、保护膜形成用片及加工物的制造方法
摘要
本发明提供一种保护膜形成膜、保护膜形成用片及加工物的制造方法。本发明的保护膜形成膜(1),其中,保护膜形成膜(1)及由保护膜形成膜(1)形成之保护膜中的至少一方,在测定温度0℃下测定之断裂应力(MPa)与在测定温度0℃下测定之断裂应变(单位:%)之积为1MPa.%以上250MPa.%以下。依该种保护膜形成膜(1),在对工件进行分割加工而得到加工物时对工件进行之扩展制程中,能够适当地分割该保护膜形成膜(1)或由保护膜形成膜(1)形成之保护膜。
申请公布号
TW201536888
申请公布日期
2015.10.01
申请号
TW103133443
申请日期
2014.09.26
申请人
琳得科股份有限公司 LINTEC CORPORATION
发明人
佐伯尙哉 SAIKI, NAOYA;稲男洋一 INAO, YOUICHI;山本大辅 YAMAMOTO, DAISUKE;米山裕之 YONEYAMA, HIROYUKI
分类号
C09J7/02(2006.01)
主分类号
C09J7/02(2006.01)
代理机构
代理人
洪澄文
主权项
地址
日本 JP
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