一种浸液限制机构

摘要

本发明涉及一种浸液限制机构，将浸液限制在投影物镜和硅片之间，包括水平供液通道、出液通道、气液回收通道、供气通道及垂直供液通道，水平供液通道和出液通道水平设置，所述垂直供液通道、气液回收通道和供气通道的出口由内向外依次排列于浸液限制机构的底部，所述水平供液通道、垂直供液通道分别连接至供液设备，所述出液通道和气液回收通道分别连接至气液回收设备，所述供气通道连接至供气设备，设于所述浸液限制机构底部的供气通道开口的宽度为十微米级。本发明通过增大供气通道的开口宽度，避免形成“气刀”结构，从而解决边缘曝光时的液滴飞溅问题；通过设置垂直供液通道，提供有碰撞风险时朝向浸液限制机构底部的排斥力，从而减小扰动。

主权项

一种浸液限制机构，将浸液限制在投影物镜和硅片之间，包括水平供液通道、出液通道、气液回收通道以及供气通道，其特征在于，还包括垂直供液通道，所述水平供液通道和出液通道水平设置，所述垂直供液通道、气液回收通道和供气通道的出口由内向外依次排列于浸液限制机构的底部，所述水平供液通道、垂直供液通道分别连接至供液设备，所述出液通道和气液回收通道分别连接至气液回收设备，所述供气通道连接至供气设备，设于所述浸液限制机构底部的供气通道开口的宽度为十微米级。