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发明名称 System zur Abscheidung eines Films auf einem Substrat unter Verwendung eines Gas-Precursors mit niedrigem Dampfdruck
摘要
申请公布号 DE10392519(T5) 申请公布日期 2005.08.04
申请号 DE20031092519T 申请日期 2003.04.14
申请人 MATTSON TECHNOLOGY INC., FREMONT 发明人 SELBREDE, STEVEN C.;ZUCKER, MARTIN;VENTURO, VINCENT
分类号 C23C16/448;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/455;H01L21/316;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):C23C16/18 主分类号 C23C16/448
代理机构 代理人
主权项
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