| 主权项 |
1﹒一种为减少在某种汽化性图案铸造方法所制成的金属铸造物上面之残余碳灰表面缺点的方法,其中有一种有机泡沫会形成一种要藉熔化金属予以复制的指定图案,该泡沫图案被嵌埋于一种载体媒质中,因而当该泡沫在以后被加上熔化金属外层时,该有机泡沫会汽化而在该载体媒质上面留下此种泡沫图案的一种金属复制物,该方法包括:使用一种含有藉使CO2与一种或数种环氧乙烷化合物起聚合作用所形成的聚合物之有机泡沫。2﹒如申请专利范围第1项的方法,其中上述环氧乙烷化合物是由包含乙烯化氧及丙烯化氧以及其混合物等物群中所选取者。3﹒如申请专利范围第1项的方法,其中上述聚合物的分子量至少为5,000。4﹒如申请专利范围第1项的方法,其中上述有机泡沫的玻璃化转移温度至少为20℃。5﹒如申请专利范围第1项的方法,其中上述有机泡沫的密度在0﹒01─0﹒9克/cc之间。6﹒如申请专利范围第1项的方法,其中上述有机泡沫是由上述聚合物藉着一种冷冻一乾化泡沫形成方法而合成者。7﹒如申请专利范围第1项的方法,其中上述载体媒质是松散未粘结的砂。8﹒如申请专利范围第1项的方法,其中上述熔化金属是灰铸铁。9﹒一种减少在汽化性图案铸造方法所制成的金属铸造物上面之残余碳灰以及表面缺点的方法,其中有一种有机泡沫会形成一种要藉熔化金属予以复制的指定图案,该泡沫图案被嵌埋于一种载体媒质中,因而当该泡沫在以后被加上熔化金属外层时,该有机泡沫会汽化而在该载体媒质中留下一种泡沫图案的金属复制物,该方法包括:使用一种有机泡沫,其中包含一种藉以CO2及一种或数种具有下列一般通式的环氧乙烷化合物起聚合作用所形成的聚合物:其中R1是由包含H,CH3,C2H5,C3H7,C4H9,C6H5,以及C6H11等原子团中所选取者;R2是由包含H及CH3等原子团中所选取者;或者R1及R2一起会形成一种有六个原子数的环。10﹒如申请专利范围第9项的方法,其中R2为H。11﹒如申请专利范围第10项的方法,其中R1是由上述H及CH3等原子团中所选取者。12﹒如申请专利范围第9项的方法,其中上述聚合物分子量至少为5000。13﹒如申请专利范围第9项的方法,其中上述有机泡沫密度在0﹒02─0﹒09克/CC之间。14﹒一种减少在汽化性图案铸造方法所制成的金属铸造物上面残余碳灰以及表面缺点之方法,其中有一种有机泡沫会形成一种要藉熔化金属予以复制的指定图案,该泡沫图案被嵌埋于一种载体媒质之中,因而当该泡沫在以后被加上一层熔化金属外层时,该有机泡沫会汽化而在该载体媒质中留下一种该泡沫图案的金属复制物,该方法包括:使用一种有机泡沫,其中包含一种含有一些具有下列一般结构式的以共价键联系之单位的聚合物:其中R1是由包含H,CH3,C2H5,C3H7,C4H9,C6H5及C6H11等原子团所选取者;R2是由包含H及CH3等原子团中所选取者;或者R1及R2一起会形成一种有六个原子数的环。15﹒如申请专利范围第14项的方法,其中R2为H。16﹒如申请专利范围第15项的方法,其中R1是由包含H及CH3等原子团中所选取者。17﹒如申请专利范围第14项的方法,其中上述聚合物分子量至少为5000。18﹒如申请专利范围第14项的方法,其中上述有机泡沫密度在0﹒02─0﹒05克/CC之间。19﹒一种为在某种汽化性图案铸造方法中用作一个模子图案的改良有机泡沫,该有机泡沫密度在0﹒01─0﹒9克/CC之间;其玻璃化转移温度至少为20℃;其结构式中包含一些具有下列一般结构式的共价键联系之单位:其中R1是由包含H,CH3,C2H5,C3H7,C4H9,C6H5及C6H11等原子团中所选取者;R2是由包含H及CH3等原子团中所选取者;或者R1及R2一起会形成一种有六个原子数的环。20﹒如申请专利范围第19项的有机泡沫,其分子量至少为5000。21﹒如申请专利范围第19项的有机泡沫,其结构式中只包含一些相同的共价键联系之单位。22﹒如申请专利范围第19项的有机泡沫,其结构式中包含二种或二种以上不同的共价键联系之单位。23﹒如申请专利范围第19项的有机泡沫,其结构式中含有一些共价键联系的单位,其中R2为H。 |
