| 发明名称 |
含氟化合物、浸渍曝光用光阻组成物及光阻图型之形成方法 |
| 摘要 |
一种浸润式曝光用光阻组成物，其特征为，含有经由酸之作用而对硷显影液之溶解性发生变化之基材成份（A），与经由曝光而产生酸之酸产生剂成份（B），与具有下述通式（c）所表示之基，且至少含有1个氟原子之含氟化合物（C）。式中，Q为1价之亲水基去除1个氢原子所得之基，R#sP!1#eP!为可具有氟原子之碳数2以上之烃基。[化1]#P 097129604P01.bmp |
| 申请公布号 |
TW200923574 |
申请公布日期 |
2009.06.01 |
| 申请号 |
TW097129604 |
申请日期 |
2008.08.01 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
古谷早苗;森贵敬;太宰尚宏;高须亮一;平野智之 |
| 分类号 |
G03F7/004(2006.01);C08F212/14(2006.01);C08F220/30(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
