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In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements (10) bereitgestellt, bei dem eine optoelektronische Schichtenstruktur mit einer funktionellen Schichtenstruktur (22) über einem Träger (12) ausgebildet wird. Eine Rahmenstruktur (30), die ein erstes metallisches Material aufweist, wird auf der optoelektronischen Schichtenstruktur so ausgebildet, dass ein Bereich über der funktionellen Schichtenstruktur (22) frei von der Rahmenstruktur (30) ist und dass die Rahmenstruktur (30) den Bereich umgibt. Eine Haftschicht (34), die ein zweites metallisches Material aufweist, wird über einem Abdeckkörper (36) ausgebildet. Eine flüssige erste Legierung (32) wird in dem Bereich auf die erste optoelektronische Schichtenstruktur und/oder auf die Haftschicht (34) des Abdeckkörpers (36) aufgebracht. der Abdeckkörper (36) wird so mit der optoelektronischen Schichtenstruktur gekoppelt, dass die Haftschicht (34) mit der Rahmenstruktur (30) gekoppelt ist und die flüssige erste Legierung (32) mit der Haftschicht (34) und der Rahmenstruktur (30) in direktem körperlichen Kontakt ist. Zumindest ein Teil der ersten Legierung (32) reagiert mit den metallischen Materialien der Rahmenstruktur (30) und der Haftschicht (34) chemisch, wodurch mindestens eine zweite Legierung (33) gebildet wird, die erstarrt und so den Abdeckkörper (36) fest mit der optoelektronischen Schichtenstruktur verbindet. |
