发明名称 | 热致发声装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI492218 | 申请公布日期 | 2015.07.11 |
申请号 | TW101144950 | 申请日期 | 2012.11.30 |
申请人 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 发明人 | 魏洋;林晓阳;姜开利;范守善 |
分类号 | G10K15/04;H04R23/00 | 主分类号 | G10K15/04 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 一种热致发声装置,包括:一基底,具有一第一表面及相对的第二表面;一热致发声元件,设置于所述基底的第一表面并与所述基底绝缘设置;及一第一电极和一第二电极间隔设置并与所述热致发声元件电连接;其改良在于,所述基底为一矽基底,所述矽基底的第一表面形成有复数相互平行且间隔设置的凹槽,所述凹槽的深度为100微米至200微米,所述热致发声元件包括一层状奈米碳管结构,该层状奈米碳管结构在所述凹槽处悬空设置。 | ||
地址 | 新北市土城区自由街2号 |