发明名称 |
金属酸化物半導体層の電気伝導性を増加させる方法 |
摘要 |
所定の位置で金属酸化物半導体層の電気伝導性を増加させる方法であって、この方法は、所定の位置で金属酸化物半導体層に物理的に接触するように還元剤を提供し、還元剤と金属酸化物半導体層との間で化学的還元反応を誘起し、これにより所定の位置で金属酸化物半導体層の化学組成に影響を与える工程を含み、並びにこの方法の使用を含む。 |
申请公布号 |
JP2015519745(A) |
申请公布日期 |
2015.07.09 |
申请号 |
JP20150510711 |
申请日期 |
2013.04.23 |
申请人 |
アイメック・ヴェーゼットウェーIMEC VZW;ネーデルランツェ・オルガニザーティ・フォール・トゥーヘパストナトゥールウェテンシャッペレイク・オンダーズーク・テーエヌオー |
发明人 |
ロベルト・ミュラー |
分类号 |
H01L29/786;H01L21/28;H01L21/324;H01L21/336 |
主分类号 |
H01L29/786 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|