发明名称 ION SOURCE HAVING A SHUTTER ASSEMBLY
摘要 <p>이온 소스는 아크 챔버를 정의하는 아크 챔버 하우징을 포함한다. 아크 챔버 하우징은 고정된 위치에 추출 플레이트를 갖고, 추출 플레이트는 복수개의 추출 개구들을 정의한다. 이온 소스는 또한 추출 플레이트에 근접하여 아크 챔버의 외측에 위치된 셔터 어셈블리를 포함한다. 셔터 어셈블리는 하나의 시간 간격(time interval) 동안에 복수개의 추출 개구들 중 적어도 하나의 부분을 차단하도록 구성된다. 이온 소스로부터 추출된 이온 빔으로 처리될 작업물의 상대적 움직임과 결합된 이온 소스는 단지 하나의 이온 소스를 이용하여 2 차원 이온 주입 패턴이 작업물 상에 형성되는 것을 가능하게 한다.</p>
申请公布号 KR20150070309(A) 申请公布日期 2015.06.24
申请号 KR20157012596 申请日期 2013.10.11
申请人 VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. 发明人 BLAHNIK JEFFREY CHARLES;WEAVER WILLIAM T.
分类号 H01J27/08;H01J27/02;H01J37/08;H01J37/302;H01J37/317 主分类号 H01J27/08
代理机构 代理人
主权项
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