发明名称 Gas supply unit and thin film deposition apparatus having the same
摘要 <p>본 발명은 가스공급부 및 이를 구비한 박막증착장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 가스공급부는 공정가스를 공급하는 공정가스공급채널, 하부의 개구부를 통해 상기 공정가스가 유입되고 상부가 막히어, 상기 공정가스가 활성화되어 기판을 향해 공급되는 활성화 채널 및 잔류가스를 배기하는 배기채널을 구비하고,상기 활성화채널은 상기 공정가스가 유입되고 상기 공정가스가 활성화되어 공급되는 유입공간과, 상기 공정가스가 확산 되는 확산공간과, 상기 유입공간과 상기 확산공간을 연결하며 상기 공정가스의 유동방향이 바뀌는 절곡부를 구비하고 상기 활성화채널로 유입된 상기 공정가스가 활성화되는 활성화공간을 구비하는 것을 특징으로 한다.</p>
申请公布号 KR101526861(B1) 申请公布日期 2015.06.09
申请号 KR20130097472 申请日期 2013.08.16
申请人 发明人
分类号 C23C16/448;C23C16/455 主分类号 C23C16/448
代理机构 代理人
主权项
地址