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发明名称
基板处理系统
摘要
本发明之课题在于多腔室类型之基板处理系统中,改善系统全体之处理效率。;控制部70针对PM10A、10B、10C、10D基于预定之规则来决定进行基板W之处理、调节之优先顺位。然后,以针对全部之PM10各实施1次调节之1循环之间不致发生在全部的PM10同时进行基板W处理之全处理室同时使用状态的方式进行控制。调节C之实施时机于PM10A、10B、10C、10D并未重叠,来形成依序各错开167片之循环。
申请公布号
TW201521110
申请公布日期
2015.06.01
申请号
TW103127018
申请日期
2014.08.07
申请人
东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人
森泽大辅 MORISAWA, DAISUKE;小川纯一 OGAWA, JUNICHI
分类号
H01L21/3065(2006.01);H01L21/677(2006.01)
主分类号
H01L21/3065(2006.01)
代理机构
代理人
林秋琴陈彦希
主权项
地址
日本 JP
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