发明名称 Reflektives optisches Element und optisches System für die EUV-Lithographie
摘要 Es wird ein reflektives optisches Element für den extrem ultravioletten Wellenlängenbereich mit einem Viellagensystem auf einem Substrat vorgeschlagen, wobei das Viellagensystem Lagen aus mindestens zwei verschiedenen Materialien aufweist, die sich durch einen unterschiedlichen Realteil des Brechungsindex bei einer Wellenlänge im EUV-Wellenlängenbereich unterscheiden, wobei Lagen mit höheren und niedrigerem Realteil des Brechungsindex abwechselnd angeordnet sind und eine Lage eines bestimmten Materials zusammen mit den zwischen ihr und der oder den in zunehmender Entfernung vom Substrat nächstgelegenen Lage gleichen Materials angeordneten Lagen einen Stapel bildet, wobei das Viellagensystem N Stapel aufweist und jeder Stapel Si mit i = 1 bis N eine Gesamtdicke Di und ein Lagendickenverhältnis &Ggr;i der Lagen des Stapels i aufweist, das sich dadurch auszeichnet, dass die Werte der Di und &Ggr;i stochastisch verteilt sind und das Viellagensystem mindestens zwei Abschnitte aufweist, wobei in einem Abschnitt die Wahrscheinlichkeit, dass entweder die Dicken Di, Di+1 oder die Lagendickenverhältnisse &Ggr;i, &Ggr;i+1 zweier aufeinanderfolgender Stapel Si, Si+1 um weniger als 10% voneinander abweichen, größer ist als in dem oder den anderen Abschnitten. Derartige reflektive optische Elemente lassen sich als Breitbandspiegel optimieren und über Röntgendiffraktometrie in ihrem Aufbau des Viellagensystems kontrollieren.
申请公布号 DE102013223895(A1) 申请公布日期 2015.05.28
申请号 DE201310223895 申请日期 2013.11.22
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 ENKISCH, HARTMUT;PAUL, HANS-JOCHEN
分类号 G02B1/10;G02B5/08;G03F7/20;G21K1/06 主分类号 G02B1/10
代理机构 代理人
主权项
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