工件台和掩模台的同步控制方法及其系统

摘要

本发明提供了一种工件台和掩模台的同步控制方法，所述工件台和所述掩模台安装在光刻机的整机框架上，包括以下步骤：设定所述工件台和所述掩模台的期望位置信号；获取所述工件台和所述掩模台的实际位置信号；通过所述工件台的期望位置信号和实际位置信号之差，获取所述工件台的伺服误差；通过所述掩模台的期望位置信号和实际位置信号之差，获取所述掩模台的伺服误差；将所述工件台的伺服误差通过一转换环节加入到所述掩模台的力信号处以进行同步。本发明提出的两种同步控制方法相比现有的控制方法，均能有效的提高工件台掩模台各轴同步性能。

主权项

一种工件台和掩模台的同步控制方法，所述工件台和所述掩模台安装在光刻机的整机框架上，其特征在于：包括以下步骤：设定所述工件台和所述掩模台的期望位置信号，所述掩模台的期望位置信号为所述工件台的期望位置信号除以光刻机的镜头倍率取反；获取所述工件台和所述掩模台的实际位置信号；通过所述工件台的期望位置信号和实际位置信号之差，获取所述工件台的伺服误差；通过所述掩模台的期望位置信号和实际位置信号之差，获取所述掩模台的伺服误差；将所述工件台的伺服误差通过一转换环节加入到所述掩模台的力信号处以进行同步；其中，所述转换环节包括：(a)将所述工件台的伺服误差除以光刻机的镜头倍率取反；(b)将(a)变化结果乘以Q(s)/P(s)，其中1/P(s)为所述掩模台闭环传函的逆模型，Q(s)为一高阶低通滤波器；(c)将(b)变化结果进行两次微分并乘以所述掩模台的质量。