| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Dosierung von mindestens zwei zu mischenden Fluidströmen, umfassend:
- eine Mehrfachdüse (3) mit mindestens zwei einzelnen Düsen (9) zur Dosierung eines ersten Fluidstroms, wobei die einzelnen Düsen (9) der Mehrfachdüse (3) parallel zu einer zentralen Achse (7) oder geneigt in Richtung der zentralen Achse (7) ausgerichtet sind und
- eine Düse (5) zur Dosierung eines zweiten Fluidstroms, wobei die Düse (5) zur Dosierung des zweiten Fluidstroms so ausgerichtet ist, dass der zweite Fluidstrom in den die Mehrfachdüse (3) verlassenden ersten Fluidstrom dosiert wird. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Zugabe von mindestens zwei flüssigen Fluidströmen in einen Schlaufenreaktor, wobei der Schlaufenreaktor eine Flüssigphase (15) mit darin umlaufenden Gasblasen und eine Gasphase oberhalb der Flüssigphase (15) enthält und Gas über eine Gaszufuhr im unteren Bereich des Schlaufenreaktors zugegeben wird, wobei die mindestens zwei flüssigen Fluidströme mit der Vorrichtung (1) in den Schlaufenreaktor dosiert werden, wobei die Vorrichtung (1) oberhalb der Flüssigphase (15) im Schlaufenreaktor positioniert ist, so dass sich der erste und der zweite Fluidstrom vor Auftreffen auf die Oberfläche der Flüssigphase (15) zumindest teilweise vermischen, und wobei die Vorrichtung (1) als Treibstrahldüse wirkt.</p> |
