研磨パッド

摘要

少なくとも研磨層を有する化学機械研磨用の研磨パッドであって、前記研磨層の研磨面に第１の溝および第２の溝を有し、前記第１および第２の溝は、それぞれの溝幅方向の縁端部に前記研磨面と連続する側面を有し、前記第１の溝は、少なくとも一方の溝幅方向の縁端部において、前記研磨面と該研磨面に連続する側面とのなす角度が１０５度より大きく１５０度以下であり、前記第２の溝は、溝幅方向の２つの縁端部の両方において、前記研磨面と該研磨面に連続する側面とのなす角度が６０度以上１０５度以下である。