| 摘要 |
<p>実用に耐えうることは勿論、耐摩耗性能がより高められた防汚膜を効率よく成膜することができる成膜装置を提供する。複数の基板１４を保持するための基体保持面を持つ基板ホルダ１２が真空容器１０内に回転可能に配設された成膜装置１において、回転停止しているときの基板ホルダ１２に向けて作動させた場合に、前記基体保持面の一部の領域である第１領域（Ａ３）に対して、該第１領域以外の他の領域（残領域）よりも多い量の成膜材料を供給可能となる構成で真空容器１０内に設置された蒸着源３４と、回転停止しているときの基板ホルダ１２に向けて作動させた場合に、その基体保持面の一部の領域である第２領域（Ａ２）のみに向けてエネルギー粒子が照射可能となる構成、配置及び／又は向きで真空容器１０内に設置されたイオン源３８とを、有する構成の成膜装置１である。</p> |
