发明名称 一种薄膜沉积装置
摘要 一种利用反应源气体G1、G2将薄膜沉积到衬底113的表面的装置101被公开。所述装置101包括:i)被配置为容纳所述衬底的支撑设备111;和ii)被放置为与所述支撑装置相邻的旋转器105。具体地,旋转器105包括用于连接到发动机的轴毂106,一个或多个连接到轴毂106的叶片201。特殊地,所述一个或多个叶片201是运行着的以在一个平面上围绕轴毂旋转以便驱动反应源气体G1、G2的流体流动,以便将所述反应源气体G1、G2分布在衬底113的表面。
申请公布号 CN102817012B 申请公布日期 2015.01.28
申请号 CN201210188760.0 申请日期 2012.06.08
申请人 先进科技新加坡有限公司 发明人 柯定福;黎子兰;丁佳培;拉加万德拉·拉温德拉
分类号 C23C16/455(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 代理人 周春发
主权项 一种利用反应源气体将薄膜沉积到衬底表面的装置,所述装置包括:支撑装置被配置为容纳所述衬底;和旋转器被放置于与所述支撑装置相邻,所述旋转器包括:连接到发动机的轴毂;和一个或多个连接到所述轴毂的叶片,其中,所述一个或多个叶片是运行着的以在一个平面上围绕所述轴毂旋转驱动所述反应源气体流体流动,以便将所述反应源气体分布在所述衬底表面,所述轴毂包括一个轴毂入口,经由所述轴毂入口所述反应源气体的一种被引入所述轴毂内部,并且,所述一个或多个叶片中的每一个包括一个叶片出口,经由所述叶片出口所述反应源气体被从各自叶片内部分配;轴毂和叶片内部相互流体连通。
地址 新加坡新加坡市