基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统

摘要

本专利公开了一种基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统，它包括一根单模光纤、一套成像放大系统、一个半透半反片、一套激光扩束系统、一个低频斩波器、一台激光器、一套显微镜系统和一个高频斩波器。纳米材料激光双调制反射光谱测量由以下部件实现：根据激光双调制工作原理，将高频斩波器调制后的白光源经过显微镜照明系统作为探测光，低频斩波器调制后的激光扩束后作为泵浦光，然后探测光和泵浦光经过同一显微物镜作用于样品表面，单模光纤作为视场光阑放置在二次放大像面处，通过电机控制对样品面进行二维扫描，获得相关光学信号。本专利实现了纳米量级区域的光谱探测，有效地消除了背景反射光的干扰，可以应用于微纳光学领域的光学特征光谱的测量。

主权项

一种基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统，包括单模光纤(1)、成像放大系统(2)、半透半反片(3)、激光扩束系统(4)、低频斩波器(5)、激光器(6)、显微镜系统(7)和一个高频斩波器(8)，其特征在于：在所述的一激光双调制反射光谱检测系统中，被测样品放置于显微镜前焦平面(7‑3)上，作为探测光的受高频斩波器(8)调制后的白光源通过显微镜照明系统(7‑2)聚焦入射到样品表面，激光器(6)发出的激光经低频斩波器(5)调制后通过扩束系统(4)，然后通过半透半反片(3)的反射作用进入镜筒透镜(7‑1)作为泵浦光与探测光一起经过同一显微物镜(7‑4)聚焦入射到样品表面，样品反射的光经显微镜(7)汇聚到显微镜一次成像面(10)处并经成像放大系统(2)成像至二次放大像面(9)，作为视场光阑的单模光纤(1)放置在二次放大像面(9)处，通过电机控制对样品面进行二维扫描，获得纳米区域的激光双调制反射光谱信号。