接近式曝光装置及接近式曝光方法

摘要

本发明涉及一种接近式曝光装置及曝光方法，其能以简单结构对掩模挠曲进行修正并保持掩模，以高精度进行曝光复制。该掩模载置台（1）具有：将掩模（M）真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架（26）；保持于掩模保持架（26）上表面侧的玻璃盖片（32）；对由掩模保持架（26）、掩模（M）及玻璃盖片（32）界定的空间（33）内的空气进行抽吸，使空间（33）内部减压的抽吸机构（40）；和从外部向减压空间（33）内供给空气的至少一条空气导入槽（35）。在将掩模（M）真空吸附并保持于掩模保持架（26）的下表面，并由抽吸机构（40）抽吸空间（33）内压力的状态下，经空气导入槽（35）向空间（33）供给外部空气，将空间（33）内压力调节为规定压力。

主权项

一种接近式曝光装置，其特征在于，具有：基板载置台，其保持作为被曝光件的基板；掩模载置台，其保持具有需曝光图案的掩模；以及照射单元，其借助所述掩模对所述基板照射图案曝光用光，所述接近式曝光装置在所述掩模与所述基板接近，并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将所述掩模的图案曝光复制在所述基板上，所述掩模载置台具有：掩模保持架，其将所述掩模真空吸附保持于其下表面；玻璃盖片，其被保持在所述掩模保持架的上表面侧；抽吸机构，其抽吸至少由所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃盖片所界定的空间内部的空气，使所述空间内部减压；以及空气导入通路，其从外部向被减压的空间内部供给空气，且所述空气导入通路至少有一条所述空气导入通路是配置于所述玻璃盖片与所述掩模保持架的接合部的空气导入槽，所述掩模载置台还具有掩模框架，所述掩模框架将所述掩模保持架真空吸附并保持于所述掩模框架的下表面，所述掩模载置台由掩模驱动部来驱动，所述掩模框架是分割形成多个且能够相互接近及分离的结构。