基于PDMS的纳米级光栅制作方法

摘要

本发明涉及光栅制作技术领域，具体为一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，解决了现有的纳米光栅制作方法所用设备昂贵、工艺条件苛刻复杂、难以控制、制作成本高、周期长的问题。一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，包括如下步骤：a、用光刻技术制作光栅母模版（5）；b、将步骤a中的光栅母模版（5）的光栅图案转移到PDMS薄膜（6）上，制作带有光栅图案的PDMS薄膜（7）；c、将带有光栅图案的PDMS薄膜（7）夹持在电控平移台上。本方法得到的纳米级光栅首先成型在PDMS薄膜上，而PDMS是一种很好的中间模具材料，对此PDMS薄膜再次倒模，便可以制作出其它多种材料的纳米级光栅。

主权项

一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，其特征在于：包括如下步骤：a、用光刻技术制作光栅母模版（5）；b、将步骤a中的光栅母模版（5）的光栅图案转移到PDMS薄膜（6）上，制作带有光栅图案的PDMS薄膜（7）；所述的PDMS是由美国Dow Corning Corp生产的SYLGARD 184型硅橡胶，它是由液体组分组成的双组分套件产品，包括预聚物与固化剂；使用时，按照预聚物：固化剂为20:1的比例配制好PDMS液体，然后将其倾倒在带有光栅结构的光栅母模版（5）的表面，在100℃的烘盘上加热固化1小时，待PDMS液体转化为固体后，将PDMS薄膜（6）从光栅母模版（5）上剥离下来，此时光栅母模版（5）上的光栅图案已经转移到PDMS薄膜（6）上，即成为带有光栅图案的PDMS薄膜（7）；c、将带有光栅图案的PDMS薄膜（7）夹持在电控平移台上，设定拉伸比例参数后，沿栅线（8）的长度方向双向拉伸带有光栅图案的PDMS薄膜（7），栅线（8）的宽度随着栅线（8）被拉长而变窄，即光栅图案的周期变小，然后将拉伸后的PDMS薄膜（9）固定在一片平整的基底（4）上；d、将拉伸后的PDMS薄膜（9）上的周期变小的光栅图案转移到PMMA薄膜（10）上，成为下一步骤的光栅母模版（5）；e、依次重复步骤b、c、d若干次，直至制作成纳米级的基于PMMA薄膜的光栅母模版（5）；f、将步骤e中的光栅母模版（5）的光栅图案转移到PDMS薄膜上，制作具有纳米级光栅图案的PDMS薄膜；g、以步骤f中具有纳米级光栅图案的PDMS薄膜为母模版，制作其它多种材料的纳米级光栅。