稳定的化学机械抛光组合物以及抛光基板的方法

摘要

稳定的化学机械抛光组合物以及抛光基板的方法。一种化学机械抛光组合物包括作为初始组分的如下组分：水；0.1-40wt％具有5-150nm平均粒径的磨料；0.001-1wt％的根据式(II)的金刚烷物质；0-1wt％的根据式(I)的二季物质；和0-1wt％的季胺盐化合物。此外，还提供了一种使用该化学机械抛光组合物用于化学机械抛光的方法。

主权项

一种化学机械抛光组合物，所述组合物包括作为初始组分的以下组分：水；0.1‑40wt％具有5‑150nm平均粒径的磨料；0.001‑1wt％的根据式(Ⅱ)的金刚烷基物质；其中A是N；其中每一个R⁸独立地选自氢，饱和或不饱和C_1‑15的烷基，C_6‑15的芳基，C_6‑15的芳烷基，C_6‑15的烷芳基；和其中式(Ⅱ)中的阴离子可以是任何平衡在式(Ⅱ)中阳离子上的+电荷的阴离子；0.001‑1wt％根据式(Ⅰ)的二季物质：其中每一X是N；其中R¹是饱和或不饱和C_1‑15的烷基，C_6‑15的芳基和C_6‑15的芳烷基；其中R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶和R⁷每一个独立地选自氢、饱和或不饱和C_1‑15烷基，C_6‑15的芳基，C_6‑15的芳烷基和C_6‑15烷芳基；和其中式(Ⅰ)中的阴离子是任何平衡在式(Ⅰ)中阳离子上的2+电荷的阴离子或阴离子的组合；和0‑1wt％的季铵化合物，所述季铵化合物选自氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四异丙基铵、氢氧化四环丙基铵、氢氧化四丁基铵、氢氧化四异丁基铵、氢氧化四叔丁基铵、氢氧化四仲丁基铵、氢氧化四环丁基铵、氢氧化四戊基铵、氢氧化四环戊基铵、氢氧化四己基铵、氢氧化四环己基铵和它们的混合物。