| 发明名称 | 用于控制基板涂布装置的基座表面温度的方法及装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种处理反应器壳体的处理室(101)内的至少一个基板(105，106，107)的方法，其中，将所述一个或多个基板(105，106，107)放置于可使用加热元件(109，110，111)加热的基座(108)上，其中，使用加热元件(109，110，111)来加热基座(108)的空间配属区域，所述加热元件分别对应该基座(108)的朝向处理室(101)一侧的表面区域(112，113，113'，114)，其中，在多个测量点上通过光学测量传感器(1至35)对表面区域(112，113，113'，114)的温度和/或配置于此处的至少一个基板(105，106，107)的温度进行测量，将传感器(1至35)所测得的测量值输入用于控制加热元件(109，110，110'，111)的热功率的控制装置(115，116，117，122)。为了对温度控制进行优化，本发明提出，分别使用温度测量值的组合来控制加热元件(109，110，110'，111)的热功率。 | ||
| 申请公布号 | CN104204291A | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
| 申请号 | CN201380012023.8 | 申请日期 | 2013.02.28 |
| 申请人 | 艾克斯特朗欧洲公司 | 发明人 | R.莱尔斯;M.利南伯格;G.K.斯特劳克;B.沙因勒;K-H.比歇尔 |
| 分类号 | C23C16/46(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;C30B25/10(2006.01)I;G05D23/19(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/46(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 贾静环 |
| 主权项 | 一种处理反应器壳体的处理室(101)中的至少一基板(105，106，107)的方法，其中，将一个或多个基板(105，106，107)放置于可使用加热元件(109，110，110'，111)加热的基座(108)上，其中，利用所述加热元件(109，110，111)来加热所述基座(108)的空间配属的区域，所述加热元件分别分配有所述基座(108)的朝向所述处理室(101)一侧的表面区域(112，113，113'，114)，其中，在多个测量点上藉由测量传感器(1至35)对所述表面区域(112，113，113'，114)的温度和/或布置在那里的的至少一基板(105，106，107)的温度进行测量，将所述传感器(1至35)所测得的测量值输入用于控制所述加热元件(109，110，110'，111)的热功率的控制装置(115，116，117，122)，其特征在于，分别使用温度测量值的组合来控制所述加热元件(109，110，110'，111)的热功率。 | ||
| 地址 | 德国黑措根拉特 | ||