发明名称 |
移动体装置及移动体驱动方法、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法 |
摘要 |
从臂构件(71)对移动体(WFS)之与XY平面平行之一面所配置之光栅(RG)照射测量光束以测量移动体在XY平面内之位置之第1测量系统之测量结果,以驱动系统驱动移动体。此场合,由于系采用从臂构件对光栅(RG)照射测量光束之构成,因此与在载台平台设置编码器系统之情形不要的,不会有起因于移动体驱动之不良影响。因此,能以良好精度驱动移动体。 |
申请公布号 |
TWI463269 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
申请号 |
TW098131730 |
申请日期 |
2009.09.21 |
申请人 |
尼康股份有限公司 日本 |
发明人 |
柴崎佑一 |
分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
一种曝光装置,系以照明光透过投影光学系统使基板曝光,其具备:框架构件,支持该投影光学系统;基座构件,配置于该投影光学系统之下方,且表面配置成与与该投影光学系统之光轴正交之既定面实质上平行;基板载台,配置于该基座构件上,且具有该基板之载置区域、及配置成较该载置区域低之形成光栅之测量面;驱动系统,驱动该基板载台;测量构件,与该框架构件连接,且一部分配置在该投影光学系统之下方;测量系统,设置于该测量构件之一部分,且具有配置成较该测量面低之读头部,藉由该基板载台位于与该投影光学系统对向之位置并透过与该测量面对向之该读头部,对该测量面从下方照射测量光束,以测量该基板载台之位置资讯;以及控制器,根据该测量系统所测量之位置资讯,控制该驱动系统之该基板载台之驱动。 |
地址 |
日本 |