正型光可成像底部抗反射涂层

摘要

本发明系关于一种可藉由在硷性水溶液中显影而形成图案之光可成像抗反射涂层组合物，其包含(i)可溶于涂层溶剂之聚合物A，其包含发色团、交联原子团、及视需要选用之可裂解基团，该可裂解基团在酸或热条件下产生有助于该聚合物在硷性水溶液中之溶解度的官能性；及(ii)至少一种光酸产生剂；(iii)交联剂；(iv)视需要选用之热酸产生剂；(v)在显影前可溶于硷性水溶液之聚合物B，其中聚合物B无法与聚合物A溶混且可溶于涂层溶剂中；及(vi)涂层溶剂组合物；及(vii)视需要选用之骤冷剂。本发明亦系关于一种使该抗反射涂层成像之方法。

主权项

一种光可成像抗反射涂层组合物，其可藉由在硷性水溶液中显影而形成图案，且包含：(i)可溶于涂层溶剂之聚合物A，其包含发色团、氟化基团及交联原子团，其中该聚合物A系选自由以下所组成之群组：a)进一步包含以下重覆单元之聚合物：其中R1至R3系独立地为H或C1至C4烷基，d>0，X为单价键或选自由烷基、氧、羧基及彼等之混合物所组成之群之键联基团，L为酸不安定基，进一步地，其中该聚合物A包含衍生自(甲基)丙烯酸4-羟苯酯与甲基丙烯酸3,5-双(六氟-2-羟基-2-丙基)环己酯之共聚物之重覆单元；b)包含衍生自甲基丙烯酸9-蒽甲酯、甲基丙烯酸1-甲基-[4,4,4-三氟-3-羟基-3-(三氟甲基)丁基]酯及(甲基)丙烯酸4-羟苯酯之重覆单元的聚合物；及c)包含衍生自甲基丙烯酸3,5-双(六氟-2-羟基-2-丙基)环己酯之重覆单元及衍生自(甲基)丙烯酸4-羟苯酯与五氟丙基甲基丙烯酸酯之重覆单元的聚合物；(ii)至少一种光酸产生剂；(iii)交联剂；(iv)视需要选用之热酸产生剂；(v)在显影前可溶于硷性水溶液之聚合物B，其中聚合物B无法与聚合物A溶混且可溶于该涂层溶剂中；(vi)涂层溶剂组合物；及(vii)视需要选用之骤冷剂。