发明名称 接触和分离柱和盘
摘要 一种接触和分离柱(1),其包围一个或多个接触和分离小室(3)的堆垛。各小室包括:盘(4),该盘有多个气流开口(6),这些气流开口通向接触和分离单元(7);下导管(16),该下导管确定了液体排出装置;以及液体供给源(17)。各接触和分离单元(7)包括具有液体进口(12)的上游接触区域(8、9)以及一个或多个下游分离区域(10),该下游分离区域设有旋流器(13)以及具有气体出口(14)的顶端。旋流器(13)布置在离气体进口一定距离处,该距离为接触和分离区域的总长度的50至90%。还公开了用于通过该柱来处理气体的方法。
申请公布号 CN104039409A 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN201280067064.2 申请日期 2012.12.14
申请人 国际壳牌研究有限公司 发明人 J·克蓬;E·J·沃斯;P·M·威尔金森
分类号 B01D3/20(2006.01)I;C01B3/50(2006.01)I;C10L3/10(2006.01)I;F25J3/02(2006.01)I;B01D53/18(2006.01)I;B01D45/16(2006.01)I;B01D45/00(2006.01)I;B01D47/00(2006.01)I;B01J8/00(2006.01)I 主分类号 B01D3/20(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 范莉
主权项 一种接触和分离柱(1),包括柱壁(2),该柱壁包围一个或多个接触和分离小室的堆垛,其中,各小室包括:盘(4),该盘有多个气流开口(6),这些气流开口通向位于盘(4)上侧的一个或多个接触和分离单元(7),其中,各接触和分离单元(7)包括具有液体进口(12)的上游接触区域(8、9)以及一个或多个下游分离区域(10),该下游分离区域设有旋流器(13)以及具有气体出口(14)的顶端;下导管(16),该下导管限定了液体排出装置;液体供给源(17),用于将液体供给接触和分离小室;其中,旋流器(13)布置在离气体进口一定距离处,该距离是接触和分离区域的总长度的50至90%。
地址 荷兰海牙