发明名称 掩模版的清洗方法及装置
摘要 本发明提供一种掩模版的清洗方法及装置,所述方法包括以下步骤:步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。本发明提供的一种掩模版的清洗方法及装置,大大缩短了掩模版的清洗周期,提高了清洗产能,并降低了材料残留的几率。
申请公布号 CN104007610A 申请公布日期 2014.08.27
申请号 CN201410263585.6 申请日期 2014.06.12
申请人 深圳市华星光电技术有限公司 发明人 匡友元
分类号 G03F1/82(2012.01)I;B08B3/10(2006.01)I 主分类号 G03F1/82(2012.01)I
代理机构 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人 林才桂
主权项 一种掩模版的清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。
地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号
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