发明名称 |
掩模版的清洗方法及装置 |
摘要 |
本发明提供一种掩模版的清洗方法及装置,所述方法包括以下步骤:步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。本发明提供的一种掩模版的清洗方法及装置,大大缩短了掩模版的清洗周期,提高了清洗产能,并降低了材料残留的几率。 |
申请公布号 |
CN104007610A |
申请公布日期 |
2014.08.27 |
申请号 |
CN201410263585.6 |
申请日期 |
2014.06.12 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
匡友元 |
分类号 |
G03F1/82(2012.01)I;B08B3/10(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/82(2012.01)I |
代理机构 |
深圳市德力知识产权代理事务所 44265 |
代理人 |
林才桂 |
主权项 |
一种掩模版的清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。 |
地址 |
518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号 |