| 发明名称 | 用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物。所述用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物包括硝酸、盐酸和水，所述组合物能够快速且均匀地蚀刻所述金属氧化物层-透明的氧化物半导体，且制备简单，容易保管。 | ||
| 申请公布号 | CN103911157A | 申请公布日期 | 2014.07.09 |
| 申请号 | CN201310659872.4 | 申请日期 | 2013.12.09 |
| 申请人 | 东友精细化工有限公司 | 发明人 | 权五炳;金童基;田玹守 |
| 分类号 | C09K13/04(2006.01)I | 主分类号 | C09K13/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 杨黎峰;石磊 |
| 主权项 | 一种用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物，包括：硝酸HNO<sub>3</sub>；盐酸HCl；和水。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道益山市 | ||