| 发明名称 | 一种改善管式PECVD系统镀膜均匀性的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种改善管式PECVD系统镀膜均匀性的方法，在镀膜工序制作减反射膜过程中采用分段式通入反应气体，所述分段的次数为2～10次。本发明通过改变在镀膜工序制作减反射膜过程中通入反应气体的进气方式，使太阳能电池表面成膜均匀，且与传统太阳能电池生产线兼容，适合于大规模生产。 | ||
| 申请公布号 | CN103904158A | 申请公布日期 | 2014.07.02 |
| 申请号 | CN201410011375.8 | 申请日期 | 2014.01.10 |
| 申请人 | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 | 发明人 | 黄纪德 |
| 分类号 | H01L31/18(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人 | 吴关炳 |
| 主权项 | 一种改善管式PECVD系统镀膜均匀性的方法，其特征在于：在镀膜工序制作减反射膜过程中采用分段式通入反应气体，所述分段的次数为2～10次。 | ||
| 地址 | 314416 浙江省嘉兴市海宁市袁花镇工业区袁溪路58号 | ||