Verfahren zur Herstellung einer leitfähigen und transparenten Zinkoxidschicht und Verwendung derselben in einer Dünnschichtsolarzelle

摘要

Verfahren zur Herstellung einer leitfähigen und transparenten Zinkoxidschicht auf einem Substrat durch reaktives Sputtern mit einem metallischen Zn Target mit einer Dotierung, wobei der Dotiergehalt des Targets weniger als 2,3 at-% beträgt, eine Substrattemperatur oberhalb von 200°C eingestellt wird, und eine dynamische Depositionsrate von mehr als 50 nm·m/min eingestellt wird, welche einer statischen Depositionsrate von mehr als 190 nm/min entspricht, wobei der Prozess einen Hysteresebereich aufweist und ein stabilisierter Arbeitspunkt innerhalb des instabilen Prozessbereichs gewählt wird, dadurch gekennzeichnet, dass der stabilisierte Arbeitspunkt innerhalb des instabilen Prozessbereichs so gewählt wird, dass er zwischen dem Umkehrpunkt zwischen stabilem, metallischen und instabilem Prozess und dem Wendepunkt der stabilisierten Prozesskurve liegt.