| 发明名称 | 具有低交联密度的光聚合物配制剂 | ||
| 摘要 | 本发明涉及具有低交联密度的光聚合物配制剂，包含三维交联的有机聚合物A)或者其前体作为基质，化合物B)，其包含在光化辐射作用下与烯键式不饱和化合物通过聚合进行反应的基团并且以溶液或者分散体形式存在于所述基质中，和C)至少一种光敏引发剂。其为基于作为基质的聚合物网络的光聚合物配制剂和至少一种溶解于基质中的光聚合单体的光聚合物配制剂，和涉及由这种光聚合物制备全息介质的方法和涉及其用途。 | ||
| 申请公布号 | CN101713923B | 申请公布日期 | 2014.05.07 |
| 申请号 | CN200910179015.8 | 申请日期 | 2009.10.09 |
| 申请人 | 拜尔材料科学股份公司 | 发明人 | M·-S·韦泽;T·罗尔;F·-K·布鲁德;T·法克;D·霍内尔 |
| 分类号 | G03F7/028(2006.01)I;G03F7/031(2006.01)I;G03H1/02(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/028(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 段家荣;李炳爱 |
| 主权项 | 光聚合物配制剂，其包含三维交联的有机聚合物A)或者其前体作为基质，化合物B)，其包含在光化辐射作用下与烯键式不饱和化合物通过聚合进行反应的基团并且以溶液或者分散体形式存在于所述基质中，和C)至少一种光敏引发剂，其中所述三维交联的有机聚合物的网络密度，表示为桥接两个聚合物链的链段的平均分子量M<sub>C</sub>，为至少2685克/摩尔，其中所述三维交联的有机聚合物A)的前体包含异氰酸酯组分a)和异氰酸酯反应性组分b)。 | ||
| 地址 | 德国莱沃库森 | ||