发明名称 多孔硅为模板制备柔性减反射层的方法
摘要 本发明提供了一种多孔硅为模板制备柔性减反射层的方法;步骤一,将PET剪成小片,放入烧杯,无水乙醇超声清洗,去离子水超声清洗,将PET取出,用普通氮气吹干;步骤二,在PET表面刷涂一层表面活性剂溶液,待溶剂充分挥发后,将PET放在匀胶机的转台上,取光刻胶滴在PET表面,甩胶并烘干;步骤三,将多孔硅模板蒸镀脱模剂;步骤四,将真空压印设备放入紫外固化箱内,将多孔硅模板和PET进行压印;步骤五,紫外照射,待光刻胶完全固化,样品冷却到室温;步骤六,将PET四个角轻轻剥离多孔硅模板,使多孔硅模板和PET基底分离,即可得。本发明反射层具有良好的减反射效果,可降低PET反射率约80%~95%。
申请公布号 CN103762272A 申请公布日期 2014.04.30
申请号 CN201410011016.2 申请日期 2014.01.09
申请人 上海交通大学 发明人 黄其煜;郑一胄
分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0216(2014.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人 牛山;陈少凌
主权项 一种多孔硅为模板制备柔性减反射层的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:步骤一,将PET剪成小片,放入烧杯,加入适量的无水乙醇超声清洗,将无水乙醇倒出,加入适量去离子水超声清洗,再将PET取出,用普通氮气吹干;步骤二,在PET表面刷涂一层表面活性剂溶液,待溶剂充分挥发后,将PET放在匀胶机的转台上,取光刻胶滴在PET表面,甩胶并烘干;步骤三,将多孔硅模板蒸镀脱模剂;步骤四,将真空压印设备放入紫外固化箱内,将多孔硅模板和PET放在真空压印设备进行压印;步骤五,紫外照射,待光刻胶完全固化,样品冷却到室温;步骤六,将PET四个角轻轻剥离多孔硅模板,使多孔硅模板和PET基底分离,即可得多孔硅为模板制备的柔性减反射层。
地址 200240 上海市闵行区东川路800号