发明名称 |
疏水层、其制作方法、具有疏水层的物品及模具的制作方法 |
摘要 |
一种具有疏水层的物品,包含一基材及一疏水层。该疏水层由施加于该基材表面的一反应气体经等离子处理而形成于该基材表面。该反应气体的主成分为挥发态的烷基硅烷分子。该疏水层的主要成分为硅与氧,且厚度为300纳米至500微米。该疏水层具有优良的疏水性,且对酸、碱、有机溶液的耐受性佳,并能承受高温加热,而提升疏水层在物品制作过程以及使用上的稳定性。 |
申请公布号 |
CN103710679A |
申请公布日期 |
2014.04.09 |
申请号 |
CN201210380980.3 |
申请日期 |
2012.10.09 |
申请人 |
杨启荣 |
发明人 |
杨启荣;蔡宗翰;吴思贤;张天立 |
分类号 |
C23C16/40(2006.01)I;B05D5/08(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/40(2006.01)I |
代理机构 |
上海一平知识产权代理有限公司 31266 |
代理人 |
须一平 |
主权项 |
一种疏水层的制作方法,其特征在于,该制作方法包含以下步骤:(A)制备一基材;(B)产生一反应气体,该反应气体主要成分为挥发态的烷基硅烷分子;(C)施加该反应气体及一等离子于该基材的一表面;及(D)形成一疏水层于该基材的该表面。 |
地址 |
中国台湾台北市和平东路1段162号 |