发明名称 | 消泡剂 | ||
摘要 | 本发明的目的在于提供在宽的温度范围下消泡性优异、并且制品稳定性优异的消泡剂。本发明的消泡剂的特征在于,其以下述作为必需成分:将利用干式法所得的二氧化硅疏水化而得到的、一次粒径为5~100nm的疏水性干式二氧化硅(S)、水、和含有下式所示的酯化合物(E)1~25重量%的疏水性液体(Q)。(R1-COO)p-DR1表示烷基或烯基,D表示从含有2~6个碳原子及1~6个羟基的化合物(D’)中去除参与酯键的羟基后的残基、或者从使碳原子数2~4的环氧烷烃加成于该化合物(D’)而得到的加成物中去除参与酯键的羟基后的残基,p表示1~3的整数。 | ||
申请公布号 | CN103596655A | 申请公布日期 | 2014.02.19 |
申请号 | CN201180071397.8 | 申请日期 | 2011.06.03 |
申请人 | 圣诺普科有限公司 | 发明人 | 安藤毅 |
分类号 | B01D19/04(2006.01)I | 主分类号 | B01D19/04(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
主权项 | 一种消泡剂,其特征在于,其以下述成分作为必需成分:将利用干式法所得的二氧化硅疏水化而得到的、一次粒径为5~100nm的疏水性干式二氧化硅(S)、水、和含有通式(1)所示的酯化合物(E)1~25重量%的疏水性液体(Q),(R1‑COO)p‑D (1)R1表示碳原子数1~21的烷基或碳原子数2~21的烯基,D表示从含有2~6个碳原子及1~6个羟基的化合物(D’)中去除参与酯键的羟基后的残基、或者从使碳原子数2~4的环氧烷烃加成于该化合物(D’)而得到的加成物中去除参与酯键的羟基后的残基,p表示1~3的整数。 | ||
地址 | 日本国京都府 |