基板处理装置、基板处理方法、涂布显影装置、涂布显影方法及记忆媒体

摘要

本发明之课题为：提供用以将曝光后之基板加热的基板处理装置，可抑制显影缺显，以抑制产量下降，进一步可减轻后段装置之处理的劳力。;为解决上述课题，以具备下述部分方式构成基板处理装置：加热板，将表面涂布有抗蚀剂且曝光后的基板加热；表面处理液雾化机构，将用来使供给至该抗蚀剂的显影液对该基板之润湿性提高的表面处理液加以雾化；冷却机构，用以冷却由该加热板受加热的基板；及表面处理液供给机构，从开始以该加热板进行加热起，到结束以该冷却机构进行冷却为止，对基板供给雾化之该表面处理液。