发明名称 III-nitride wafer fabrication
摘要 A method for fabrication of a III-nitride film over a silicon wafer that includes forming control joints to allow for overall stress relief in the III-nitride film during the growth thereof.
申请公布号 US8557681(B2) 申请公布日期 2013.10.15
申请号 US20070978409 申请日期 2007.10.29
申请人 HERMAN THOMAS;BEACH ROBERT;INTERNATIONAL RECTIFIER CORPORATION 发明人 HERMAN THOMAS;BEACH ROBERT
分类号 H01L21/00;H01L21/311 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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