超净工作台及单晶硅用原料的制造方法

摘要

本发明涉及超净工作台及单晶硅用原料的制造方法。本发明提供一种超净工作台，其具备承载多晶硅的操作台；具有相对于上述操作台的上方操作空间包围除了前面之外的三面的侧板和覆盖这些侧板上方的顶板的箱体；将上述洁净空气离子化，除去上述操作台上的静电的电离器，在上述箱体的上述顶板上形成有向上述电离器和上述操作台的上面提供洁净空气的供给孔，在上述箱体的上述侧板上形成有抽吸上述操作空间内的空气的抽吸孔。

主权项

一种超净工作台，其具备：承载多晶硅的操作台；和具有相对于上述操作台的上方操作空间包围除了前面之外的三面的侧板和覆盖操作空间上方的顶板、内部形成空洞的箱体，其中，形成供给孔，该供给孔设置在上述箱体的上述顶板上、同时向上述操作台的上面供给洁净空气，具有电离器，该电离器将从上述供给孔向上述操作空间供给的上述洁净空气离子化、除去上述操作台上的静电，在上述箱体的上述侧板上形成吸入上述操作空间内的空气的抽吸孔，在上述箱体的内部还设有连通上述抽吸孔和上述供给孔之间的连通路，具有：向上述操作空间供给洁净空气的送风机、和从由上述送风机供给的上述洁净空气除去微粉末的滤器，在上述连通路上设置上述滤器和上述送风机，从上述送风机送出的上述洁净空气全部通过上述滤器供给至上述操作空间。